Heute unterzeichneten Vertreter des deutschen und des amerikanischen Patentamts ein Abkommen über eine künftige Zusammenarbeit beider Behörden.
“Die Zusammenarbeit mit dem amerikanischen Patentamt, das wie das Deutsche Patent- und Markenamt zu den fünf größten nationalen Patentämtern der Welt gehört, ist uns sehr wichtig.”, so Dr. Jürgen Schade, Präsident des Deutschen Patent- und Markenamts. “Gemeinsam mit den amerikanischen Kolleginnen und Kollegen treten wir für einen wirksamen Schutz geistigen Eigentums ein, fördern so Innovationen und unternehmerisches Handeln.”
Mit der gemeinsamen Erklärung nehmen das deutsche und das amerikanische Patentamt erstmals eine Zusammenarbeit auf. Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter der Arbeits- und Leitungsebenen beider Ämter werden regelmäßig Informationen austauschen und so genannte Best Practices diskutieren. Im Mittelpunkt der Kooperation werden ein Patentprüferaustausch sowie ein gemeinsames Pilotprojekt zum Patent Prosecution Highway stehen. Der Austausch und die gegenseitige Nutzung von Rechercheergebnissen sollen dazu beitragen, die Qualität der Prüfung zu verbessern und das Verfahren zu beschleunigen. Darüber hinaus sollen Fragen der Patentqualität und des Qualitätsmanagements erörtert werden.
Quelle: Pressemitteilung des DPMA
